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  Obstacle strength of binary junction due to dislocation dipole formation: An in-situ transmission electron microscopy study

Haghighat, S. M. H., & Schäublin, R. E. (2015). Obstacle strength of binary junction due to dislocation dipole formation: An in-situ transmission electron microscopy study. Journal of Nuclear Materials, 465, 648-652. doi:10.1016/j.jnucmat.2015.06.054.

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 作成者:
Haghighat, Seyed Masood Hafez1, 2, 著者           
Schäublin, Robin E.3, 4, 著者           
所属:
1Microstructure Physics and Alloy Design, Max-Planck-Institut für Eisenforschung GmbH, Max Planck Society, ou_1863381              
2Ecole Polytechnique Fédérale de Lausanne (EPFL), Centre de Recherches en Physique des Plasmas, Association Euratom-Confédération Suisse, Villigen PSI, Switzerland, ou_persistent22              
3Ecole Polytechnique Fédérale de Lausanne (EPFL), Centre de Recherches en Physique des Plasmas, Association Euratom-Confédération Suisse, CH 5232 Villigen PSI, Switzerland, ou_persistent22              
4Laboratory of Metal Physics and Technology, Department of Materials, ETH Zurich, Zurich, Switzerland, ou_persistent22              

内容説明

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資料詳細

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言語: eng - English
 日付: 2015-07-022015-10
 出版の状態: 出版
 ページ: -
 出版情報: -
 目次: -
 査読: -
 識別子(DOI, ISBNなど): DOI: 10.1016/j.jnucmat.2015.06.054
 学位: -

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Project information

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出版物 1

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出版物名: Journal of Nuclear Materials
種別: 学術雑誌
 著者・編者:
所属:
出版社, 出版地: -
ページ: - 巻号: 465 通巻号: - 開始・終了ページ: 648 - 652 識別子(ISBN, ISSN, DOIなど): ISSN: 0022-3115
CoNE: https://pure.mpg.de/cone/journals/resource/954925416962
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